溶胶-凝胶法制备氧化硅光学减反射膜.pdf

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溶胶一凝胶法制备氧化硅光学减反射膜�孙菁华��⋯,吕海兵���东��煲�,袁晓东��������,�������狦��引言溶胶一凝胶法制备氧化硅光学减反射膜/孙菁华等��������������������⋯,����琗���,�������光光源系统、激光放大系统、激光准直系统、频率调整系统和些光学元件一般都是光学玻璃,其折射率在��~��之间。当激光穿过这些光学元件时,会在元件的前后两个表面各自学元件之后,其能量损失十分严重。若在每片需要尽可能透率可以从未镀膜时的约�ハ陆档�.�ヒ韵拢�舛哉�龉�学系统高效利用激光能量来说是非常宝贵的��。薄膜,即真空蒸镀法�锢矸椒�和溶胶一凝胶法��Х椒�。在真空中将镀膜材料加热蒸发,镀膜材料的蒸气在电场作用剂或其他辅助试剂控制反应,前驱物进行水解、缩合反应,在溶液中形成稳定的透明溶胶体系,通过提拉旋涂等方法制备好的稳定性,可以满足通常光学元件镀膜的各种要求��5�随着高能量激光器的出现,尤其是一些特殊的大功率激光系统,对高功率超短脉冲激光的追求和高功率超短脉冲激光物理现象的研究需要更高能量的激光,因此对光学元件耐激光损伤能力的提高就非常迫切。传统真空蒸镀制备的薄膜最外,高功率激光装置的逐步升级需要的光学元件口径不断增合理的经济性成为传统方法无法攻克的难关。以溶胶一凝胶技术为基础的化学镀膜技术的发展和应用为解决这些难题构以及各类缺陷的产生,减少强激光作用下由于膜层缺陷诱中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳���;�泄�蒲г荷轿髅禾炕�а芯克��泄�蒲г禾坎牧�重点实验室,太原���;�泄�蒲г捍笱В�本����摘要综述了溶胶一凝胶光学减反射膜的应用背景及光学原理,系统讨论了溶胶一凝胶氧化硅减反射膜的完整制备工艺以及薄膜在使用过程中的主要性能评价指标,最后展望了薄膜的未来发展趋势。关键词中图分类号:��.�;���文献标识码:�����,����高功率激光装置由许多构造复杂的光学系统组成,如激聚焦系统等,在各个光学系统中包含了许多的光学元件,这产生大约�サ姆瓷渌鹗В�虼耍�奔す馔腹���陨系墓�过的光学元件表面镀上一层减反射膜,元件两个表面的反射目前,在高功率激光系统中通常采用两种方法得到光学真空蒸镀法是将镀膜材料和镀膜基底分别置于电场的两极,下沉积于镀膜基底上,通过调整蒸发速度和电场强度可以调节镀膜的速度和厚度。溶胶一凝胶法主要是用含高化学活性组分的化合物作前驱体�话闶且子谒�獾慕鹗舸佳巍⒐璐�盐或金属无机盐��谝合嘞陆�庑┰�暇�然旌希�尤氪呋�薄膜。传统真空蒸镀薄膜制备技术已经历了相当长的应用历史,并在激光光学薄膜制备上得到了广泛的应用,其具有良大缺点是应力高、缺陷多、抗激光损伤阈值低,极大地限制了激光系统输出功率,阻碍了高功率激光器的研究发展。,大口径光学元件的镀膜以及提供了新的途径��S胝婵照舳品ㄏ啾龋�捎萌芙阂荒�杭际�制备的高功率光学薄膜的优势集中体现在:��芙阂荒�汗�学薄膜疏松的网络状结构有利于能量松弛,赋予薄膜低的应力和良好的抗激光损伤性能。��子诳刂票∧さ淖槌伞⒔�导的激光损伤。��璞敢G蠹虻ィ�ひ盏牡统杀疽约岸源�面积和形状不规则基底强的适应性等使得大口径激光薄膜的规模化生产成为可能一”⋯。��易匀豢蒲Щ�������孙菁华:女,��年生,博士生