离子辅助沉积法制备SiO2介质薄膜的应力研究.pdf

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离子辅助沉积法制备介质薄膜的应力研究张金胜,张金龙狼俊光报发学糙度小、在可见和近红外区域透明等特性,是一种较好的光学薄膜材料。另外,壕敌院谩⒂度大、耐腐蚀性强、化学性质稳定、抗激光损伤阈摘要:在高功率垂直腔面发射激光器制作工艺中,生长出低应力、高质量、高稳定性的橹什惴浅9二氧化硅:哂姓凵渎实汀⒏阶哦惹俊⒋。:键。我们使用高效率@胱釉锤ㄖ诘头诺绲缌魈跫拢贕牡咨铣粱薙,,并对退火的应力影响进行了测试。在有离子辅助沉积时,对不同生长速率、不同厚度的应力影响进行了研究,对沉积过程进行了分析。结果表明:离子辅助沉积的∧さ挠αυ缎∮诔9婀ひ仗跫鲁粱谋∧さ挠αΓ彝嘶鸷应力变化小。关键词:离子辅助沉积;罕∧ぃ挥αΓ煌嘶中图分类号:文献标识码:陎发光学及应用国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春泄蒲г捍笱В本猻。猯,甎钞,%:—,甌甌.。猘—收稿日期:..:修订日期:——基金项目:国家基金重点项目资助项目作者简介:张金胜,男,河南新乡人,主要从事半导体光电子器件方面的研究。..,,篿—;;;,,珻,.:..—
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矿一满鋔【忐一之等七一去验实用会导致薄膜产生裂痕、脱落等现象,形成漏电性。1∧さ闹票钢饕S写趴亟ι、电子束蒸镀、等离子体增强化学气相沉积牖鳌伤的曲率法测试了薄膜表面的曲率变化。采用公式进行应力分析。通过对实验样品的体激光器橹什愕墓ひ仗跫辍3ご为目前单管脉冲的实验巾所有的薄膜样品都是在莱宝光学子辅助蒸镀,阴极为年改进后使用的效率更高的2牧希珹梢跫虏亢椭胁糠至铰Mㄈ薃螅壤胱釉纯J糡作,常监控,速率得到精确控制,精度为。实验霾煌俾式校鹤詈笠蛔檠∪∮欣胱釉完成后,再次测试样品的表面曲率变化,。图J笛樽爸玫慕峁故疽馔肌测试方法者表面缺陷等造成;、晶体无序、晶粒之间应力测试通过在镀膜前、后测得的曲率变化表面发生曲率变化。根据应力计算公式式中,为沉积薄膜后的内应力,尺。。为沉积薄膜前的曲率半径,N3粱∧ず蟮那拾刖叮珽。面发射激光器挠τ迷嚼丛焦惴骸6员膜的制备找蔡醡了越来越高的要求。质量不好的介质层在大电流、高温环境下南于应力的作流,直接影响激光器件的成品率、稳定性和可靠等方法。⑶以诎氲继寮す馄鞲呶隆⒋电流工作环境下保持应力稳定性的研究还未见报道。本文采用离子辅助电子束沉积和退火的方法制备了∧ぃ捎眉虮闱叶曰酌挥腥魏嗡测试分析,得到适合高温稳定工作的大功率半导光机所使用该方法制备了用于垂直腔面发射激光器的橹时∧ぃ骷姆逯倒β蚀锏实验方法镀膜机内制备完成的,利用莱宝光学壤胱釉唇欣通人。所使用基底为,大小为厚度为穖,经过三氯乙烯、丙酮、,放于镀膜机内。。当基底温度为时,尤电源开始工作,加热电流为<尤鹊缪为规选用诺绲缌鳌璢。,,薄膜厚度由晶控片分为三组进行:第一组的实验条